会社沿革

 1990年2月 資本金500万円をもって設立(大阪府堺市新家町)
8月 排ガス処理装置1号機「TLV-AF」開発
10月 粉体除去装置開発
1991年1月 排ガス処理装置全自動タイプ「TLV-AFN」開発
2月 資本金2,000万円に増資
5月 排ガス処理装置低価格タイプ「TLV-M-AN」「TLV-MW-AF」開発
1992年1月 メンテナンス工場完成
2月 排ガス処理装置小型全自動タイプ「TLV-AFNX」開発
1994年 4月 新社屋完成移転(大阪府堺市東山)
5月 排ガス処理装置輸出モデル「TLV-AFCX」「TLV-AFCWX」開発
ニュー・テクノロジー株式会社設立(関連企業)
1995年 2月 資本金5,000万円に増資
6月 九州営業所開設(熊本県菊陽群菊陽町)
Clean Technology Korea Co., Ltd.(関連企業)仁川市(韓国)に設立
8月 クリーン・メンテナンス株式会社設立(関連企業)
11月 本社社屋増築完成(大阪府堺市東山)
深井工場完成
1996年 4月 Clean Technology Korea Co., Ltd.(関連企業)水原市(韓国)に移転、
工場完成
10月 フロン処理装置・水スクラバ開発
11月 半導体用排気ラインフィルタ「バリヤトロン」/
自動配管クリーニングシステム「ダクトロン」/
半導体用バキュームユニット「セルペンス」開発
12月 関東営業所開設(神奈川県相模原市当麻)
1999年 5月 ドライエッチング用排ガス処理装置「テクノクリーン」開発
乾式排ガス処理装置用薬剤の社内開発を開始
2000年 1月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウス」開発
湿式排ガス処理装置「アクア」開発
2月 排気切替えユニット「テクノチェンジャー」開発
12月 湿式排ガス処理装置「アクアII」開発
2001年 7月 配管内コーティング「CTコート」販売開始
9月 配管用ジャケット式ヒータ「CTジャケット」開発
2002年 1月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスPA」開発
12月 湿式排ガス処理装置「アクア|||」開発
2003年 3月 関東営業所移転(神奈川県伊勢原市東成瀬)
2004年 9月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザー」開発
2005年12月 半導体用水中掃除機「アクアクリーン」開発
2006年 5月 半導体用VOC処理装置「レグルス」開発
12月 プラズマ式排ガス処理装置「サンダー」開発
2007年 4月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーネオ」開発
5月 新社屋完成移転(大阪府泉佐野市日根野)
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスプリンツ」開発
2008年 2月 ISO 9001、14001を取得
8月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーギガント」開発
2009年10月 ヒータ触媒式排ガス処理装置「ナイトクリーン」開発
2011年11月 九州営業所移転(熊本県菊池郡大津町)
2013年4月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズ」開発
2015年7月 プラズマ式排ガス処理装置「ラフォック」開発
2016年9月 プラズマ式排ガス処理装置「デュアルサンダー」開発
2017年4月 ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズⅡ」開発
6月 湿式粉体処理装置「コトル」開発
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