除害装置

■プラズマ式装置

難分解性のPFCガスの処理を実現しました
用途:OXIDE-ETCHやLP・PE-CVD等で使用されるプロセスガスとCF4、SF6等のPFCガスの処理

■ヒータ触媒式装置

ローカルスクラバ型ヒータ触媒式装置です
用途:IPA・アセトン・有機アミン系等のVOCガス全般の処理

■ヒータ式装置

CF4ガスを処理対象外にし、驚異的パフォーマンスを実現しました
用途:LP・PE-CVD等で使用されるプロセスガスとPFCガスの処理

■乾式装置

1日24時間・365日連続稼働を実現する集大成装置です
用途:あらゆるCVD工程やイオン注入、エピタキシャル工程から排出されるガスの処理

高い除害性能と安全性を満たしながら、世界一の低価格を目指しました
用途:処理対象ガスに応じた薬剤を除害筒に充填することにより下記の用途に対応します。
・ドライエッチング工程で使用されるフッ素・塩素・臭素系ガスの処理
・タングステンCVD工程で使用されるWF6ガス等の処理
・MO-CVD工程で使用されるAsH3ガス等の処理

■湿式装置

省スペース・低価格・高メンテナンス性を実現しました
用途:ドライエッチ工程やCVD工程等で使用されるハロゲン系ガスやアンモニアガス等の処理

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