History

1990年12月

資本金500万円をもって設立（大阪府堺市新家町）

8月

排ガス処理装置1号機「TLV-AF」開発

10月

粉体除去装置開発

1991年1月

排ガス処理装置全自動タイプ「TLV-AFN」開発

2月

資本金2,000万円に増資

5月

排ガス処理装置低価格タイプ「TLV-M-AN」「TLV-MW-AF」開発

1992年1月

メンテナンス工場完成

2月

排ガス処理装置小型全自動タイプ「TLV-AFNX」開発

1994年4月

新社屋完成移転（大阪府堺市東山）

5月

排ガス処理装置輸出モデル「TLV-AFCX」「TLV-AFCWX」開発
ニュー・テクノロジー株式会社設立（関連企業）

1995年2月

資本金5,000万円に増資

6月

九州営業所開設（熊本県菊陽群菊陽町）
Clean Technology Korea Co., Ltd.（関連企業）仁川市（韓国）に設立

8月

クリーン・メンテナンス株式会社設立（関連企業）

11月

本社社屋増築完成（大阪府堺市東山）
深井工場完成

1996年4月

Clean Technology Korea Co., Ltd.（関連企業）水原市（韓国）に移転、工場完成

10月

フロン処理装置・水スクラバ開発

11月

半導体用排気ラインフィルタ「バリヤトロン」
自動配管クリーニングシステム「ダクトロン」
半導体用バキュームユニット「セルペンス」開発

12月

関東営業所開設（神奈川県相模原市当麻）

1999年5月

ドライエッチング用排ガス処理装置「テクノクリーン」開発

1999年5月

ドライエッチング用排ガス処理装置「テクノクリーン」開発
乾式排ガス処理装置用薬剤の社内開発を開始

2000年1月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウス」開発
湿式排ガス処理装置「アクア」開発

2月

排気切替えユニット「テクノチェンジャー」開発

12月

湿式排ガス処理装置「アクアⅡ」開発

2001年7月

配管内コーティング「CTコート」販売開始

9月

配管用ジャケット式ヒータ「CTジャケット」開発

2002年1月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスPA」開発

12月

湿式排ガス処理装置「アクアⅢ」開発

2003年3月

関東営業所移転（神奈川県伊勢原市東成瀬）

2004年9月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザー」開発

2005年12月

半導体用水中掃除機「アクアクリーン」開発

2004年9月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザー」開発

2006年5月

半導体用VOC処理装置「レグルス」開発

12月

プラズマ式排ガス処理装置「サンダー」開発

2007年4月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーネオ」開発

5月

新社屋完成移転（大阪府泉佐野市日根野）
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスプリンツ」開発

2008年2月

ISO 9001、14001を取得

8月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーギガント」開発

12月

クリーン・テクノロジー株式会社 / ニュー・テクノロジー株式会社 合併
資本金6,000万円に増資

2009年10月

ヒータ触媒式排ガス処理装置「ナイトクリーン」開発

2011年11月

九州営業所移転（熊本県菊池郡大津町）

2013年4月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズ」開発

2015年7月

プラズマ式排ガス処理装置「ラフォック」開発

2016年9月

プラズマ式排ガス処理装置「デュアルサンダー」開発

2017年4月

ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズⅡ」開発

6月

湿式粉体処理装置「コトル」開発

2019年5月

コトルの単体モデル市場導入

2020年1月

本社3階生産現場増設

6月

ニュー・テクノロジー株式会社設立（子会社）

2021年6月

長崎営業所開設

9月

関東営業所移転

2022年1月

宮城営業所開設

2022年5月

Clean Technology America, Inc.設立

2024年7月

本社（大阪府泉南市りんくう南浜3番2）移転